11月3日消息，EUV工艺是5nm节点之后难以绕开的先进工艺，EUV光刻机仅荷兰ASML具备生产能力，而日本在EUV光刻胶领域拥有显著优势，面向2nm及以下节点，日本三大化工巨头均在积极推进产能扩张。
日本半导体材料企业东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）近期对外宣布，计划在韩国平泽市投资200亿日元（约合1.3亿美元）兴建一座光刻胶生产工厂，该工厂预计于2030年实现正式投产。
平泽是三星、SK海力士等韩国半导体企业的关键生产基地，此工厂投产后，韩国应化工业的产能将提升至原来的三四倍，从而更有效地满足客户的各类需求。
此外，应化工业还计划在韩国追加投资120亿日元，用于建设高纯度化学工厂，该工厂同样将采用先进的半导体工艺。外界认为，日本厂商此举是在积极扩大产能，为2nm及更先进工艺的需求提前布局。
同为EUV光刻胶巨头的JSR公司，也计划在韩国投资建造MOR型光刻胶工厂，并且预计明年底即可实现量产。
另一家百年老店Adeka阿德卡也计划在日本进行投资扩产，拟斥资32亿日元建设MOR型光刻胶工厂，预计2028年4月实现量产。
MOR型光刻胶以金属氧化物为基础，主要是为EUV光刻工艺研发的，国内也在积极推进MOR光刻胶的研发及生产线建设。
在半导体材料领域，特别是光刻胶这一关键环节，日本企业长期以来占据着全球91%以上的市场份额。尽管目前其本土尚未建立2nm工艺的芯片工厂，但日本方面正积极在海外市场进行布局，对于2nm及更先进的芯片工艺同样抱有势在必得的决心。
